Rani Nopriyanti, 2012 Sintesis Lapisan Tipis SnO2 Dalam Aplikasinya Sebagai Sensor Gas CO dan Pengujian Sensitivitas
Universitas Pendidikan Indonesia
| repository.upi.edu
Gambar 3.4 Skema Langkah – langkah Pembuatan Elektroda
A. Pencucian Substrat
Pencucian substrat merupakan proses yang sangat penting dilakukan sebelum memulai proses selanjutnya. Pada saat substrat disimpan, banyak faktor yang dapat
menyebabkan munculnya kontaminasi pada substrat misalnya terdapatnya lapisan oksida yang sangat tipis, keringat pada saat dipegang, debu-debu yang menempel,
bahan organik dan zat anorganik, bahan ionik dsb. Oleh karena itu sangatlah
Rani Nopriyanti, 2012 Sintesis Lapisan Tipis SnO2 Dalam Aplikasinya Sebagai Sensor Gas CO dan Pengujian Sensitivitas
Universitas Pendidikan Indonesia
| repository.upi.edu
diperlukan proses pencucian substrat sebelum melanjutkan ke proses selanjutnya. Hal ini bertujuan untuk menghilangkan kontaminan-kontaminan yang terdapat pada
permukaan substrat dan untuk mengontrol keberadaan oksida yang tumbuh pada permukaan substrat. Dalam proses pencucian substrat dibutuhkan alat dan bahan
yang harus dipersiapkan dengan baik, terutama peralatan yang dapat menunjang keselamatan ketika melakukan proses pencucian substrat. Berikut adalah alat dan
bahan yang dibuthkan: 1.
DI Water 2.
Gas Nitrogen 3.
Chemical Apron, Chemical Gloves dan Face Shield
4. Wafer dippers and Holders
5. Gelas Beker Pyrex
6. NH
4
OH 7.
H
2
O
2
Penelitian ini, digunakan standar pembersihan substrat silikon RCA-1 yang telah dikembangkan oleh Werner Kern pada tahun 1960-an. Berikut merupakan
langkah – langkah yang dilakukan dalam proses pencucian substrat:
1. Masukkan 325 ml DI Water dan 65 ml NH
4
OH 27 ke dalam gelas beker Pyrex.
2. Panaskan larutan tersebut diatas hot plate pada suhu 70 ± 5
o
C.
Rani Nopriyanti, 2012 Sintesis Lapisan Tipis SnO2 Dalam Aplikasinya Sebagai Sensor Gas CO dan Pengujian Sensitivitas
Universitas Pendidikan Indonesia
| repository.upi.edu
3. Pada suhu 65
o
C masukkan 65 ml H
2
O
2
30. Setelah dipanaskan selama 1-2 menit larutan akan mendidih, dan hal tersebut mengindikasikan bahwa larutan
telah siap digunakan. 4.
Kemudian rendam substrat silikon didalam larutan tersebut selama 15 menit. 5.
Setelah direndam selama 15 menit didalam larutan, pindahkan substrat dari larutan kemudian alirkan DI water pada substrat silikon.
6. Keringkan substrat silikon dengan cara menyemprotkan gas N
2
.
B. Oksidasi
