3.1. Alat dan Bahan
Proses penumbuhan film tipis ZnO:Al dengan menggunakan reaktor dc magnetron sputtering
yang terdiri atas: a. Tabung plasma berbentuk silinder diameter 30 cm terbentuk dari
stainlees steel. Tabung plasma dilengkapi tutup yang dapat dibuka dan ditutup. Pada dinding terdapat jendela untuk menggamati plasma, satu
lubang untuk sistem vakum dan satu sistem untuk sistem masuk gas. b. Sumber tegangan DC yang dapat dibangkitkan hingga 800 volt, dengan
dilengkapi voltmeter, amperemeter serta sistem proteksi terjadinya overload
kelebihan arus. c. Sepasang elektroda planar berbentuk lingkaran dengan diameter 6 cm yang
terbuat dari stainless steel. Elektroda disusun horizontal sejajar di dalam tabung plasma dengan katoda terletak di bagian bawah dan anoda di
bagaian atas, jarak elektroda dapat diatur dengan cara menaikkan dan menurunkan batang penyangga.
d. Sistem pemanas substrat yang terdiri atas elemen pemanas, sumber tegangan DC 40 volt, termokopel dan termometer digital.
e. Sistem pendingin target berupa air yamg dialirkan secara terus menerus di belakang katoda oleh pompa air.
f. Sistem vakum yang terdiri atas pompa rotari dan alat pengukur tekanan dalam tabung. Dua buah valve digunakan untuk mengatur pompa yang
diaktifkan. g. Sistem masukan gas untuk mengalirkan gas kedalam tabung plasma.
h. Magnet Magnet diletakkan dibawah katode. Magnet berfungsi untuk membelokan
partikel bermuatan akibat dari medan magnet yang mengakibatkan gas argon terionisasi. Elektron-elektron yang terkurung dalam medan magnet
akan mengakibatkan ionisasi pada gas argon. Jumlah ion-ion yang tertarik kepermukaan lebih banyak. Semakin banyak ion-ion yang menumbuk
permukaan target, hasil sputtering semakin meningkat. i.
Shutter Shutter
dipasang diantara anoda dan katoda. Shutter ini berfungsi sebagai penghalang tumbukan ion dari target menuju substrat, apabila dalam
proses deposisi belum stabil. j. Tabung gas argon dan oksigen
Bahan yang digunakan untuk penelitian ini adalah ZnO:Al dengan kandungan Al sebesar 2 sebagai target, subtrat corning glass sebagai tempat
tumbuhnya film tipis, gas argon sebagai gas pensputter, pencuci subtrat aseton, metanol, DI water, dan pasta perak untuk merekatkan subtrat pada anode dalam
dc magnetron sputtering .
3.2. Prosedur Penelitian 3.2.1 Pembuatan Target ZnO doping Al ZnO:Al
Kategori