Proses Pelapisan Logam Secara Listrik Elektroplating

Bab ini berisi tentang kesimpulan yang diperoleh, serta saran-saran sehubungan dengan praktek yang telah dilakukan.

BAB II KAJIAN PUSTAKA

2.1. Proses Pelapisan Logam Secara Listrik Elektroplating

Prinsip dasar dari pelapisan logam secara listrik adalah penempatan ion logam yang ditambah elektron pada logam yang dilapisi, yang mana ion-ion logam tersebut didapat dari anoda dan eletrolit yang digunakan. Secara elektrokimia prosesnya dapat dilihat sebagai berikut : Skema Pelaksanaan Pelapisan Logam Secara Listrik , Keterangan : 1. Anoda bahan pelapis; 2. Katoda benda kerja; 3. Elektrolit; dan 4. Sumber arus searah Gambar 2.1. skema proses pelapisan logam secara Elektroplating Prinsip kerja dasar pelapisan logam adalah penempatan ionion logam pelapis diatas substrat yang akan dilapisi melalui metode elektrolisis yakni dengan adanya arus searah maka senyawa kimia akan terurai dalam larutan elektrolit. Ion- ion positif akan bergerak ke katoda dan ion-ion negatif akan bergerak menuju anoda sehingga terjadi pelapisan pada substrat atau benda yang akan dilapisi. Anoda merupakan elektroda yang menghasilkan elektron sedangkan katoda adalah elektroda yang menerima elektron yang merupakan tempat pengendapan pada saat elektroplating. Sebagai anoda digunakan platina karena bersifat inert sedangkan katodanya merupakan substrat yang dipakai untuk membuat lapisan tipis, misalnya jika ingin melapisi bahan dengan Cr maka larutan elektrolitnya asam kromat dan sebagai anodanya adalah Cr Herman Ramada, 2012: 3. Reaksi yang terjadi pada katoda adalah sebagai berikut : M n+ + ne M Reaksi yang terjadi pada anoda adalah sebagai berikut : M M n+ + ne 2.2. Nikel Nikel adalah logam putih perak yang keras. Nikel bersifat liat, dapat ditempa dan sangat kukuh logam ini melebur pada 1455 C, dan bersifat sedikit magnetis Vogel, 1990: 280. Bereaksi lambat dengan larutan HCl atau H 2 SO 4 encerpekat, segera larut dalam HNO 3 encer, tetapi dalam larutan yang pekat menjadi pasif Abdul Karim Zulkarnain, 1991:55. Berat molekul Nikel adalah 58,71. Garam-garam Ni II yang stabil berasal dari Ni II oksida, dan berwarna hijau yang disebabkan oleh warna dari kompleks heksakuonikelat II [NiH 2 O 6 ] 2+ . NikelIII oksida, Ni 2 O 3 yang hitam kecoklatan juga ada, tetapi zat ini melarut dalam asam dengan membentuk ion nikel II. Gambar 2.2. Nikel Asam klorida encer maupun pekat dan asam sulfat encer, melarutkan nikel dengan membentuk hidrogen Vogel, 1990: 281: Ni s + 2H + aq→Ni 2+ aq + H 2 s Ni s + 2HCl aq →Ni 2+ aq + 2Cl - aq + H 2 g Reaksi dipercepat jika larutan dipanaskan. Asam sulfat encer, panas melarutkan nikel dengan membentuk belerang dioksida Vogel, 1990: 281: Ni s + H 2 SO 4 aq + 2H + aq→Ni 2+ aq + SO 2 g + 2H 2 O l Asam nitrat encer dan pekat melarutkan nikel dengan mudah dalam keadaan dingin Vogel, 1990: 281: 3Ni s + 2HNO 3 aq + 6H + aq→ 3Ni 2+ + 2NOg + 4H 2 O l Dengan adanya ligan Cl - dalam larutan nikelII akan membentuk ion kompleks tetrakloronikelatII, persamaan reaksinya sebagai berikut : Ni 2+ aq + 4Cl - aq→[NiCl 4 ] 2+ aq Garam-garam nikel II yang stabil diturunkan dari nikel II oksida, NiO yang berwarna hijau. Penggunaan nikel yang paling banyak adalah pada industri pelapisan logam. 2.3. Pelapisan Nikel Ni plating Adalah proses pelapisan yang menggunakan logam Ni sebagai pelapisnya. Pada proses Ni plating digunakan beberapa zat kimia yang berupa larutan sebagai sumber pelapis - 2 NiCl Nikel klorida - 4 NiSO Nikel sulfat watts solutions - 3 3 BO H Asam borik Selain dari bahan diatas ada juga bahan tambahan misalnya untuk pengkilat kita gunakan “Nisol”. Reaksi dari ketiga larutan diatas adalah sebagai berikut:        Cl Ni NiCl O H 2 2 2 2 Fungsi dari Ni 2+ ini adalah sebagai sumber pelapis. Disini yang jadi pertanyaan adalah Ni 2+ adalah ion sedangkan yang dibutuhkan untuk menjadi pelapis haruslah jadi padatan. Ni        2 4 2 4 2 SO Ni O NiS O H Ni 2+ berfungsi sebagai pelapis        3 3 3 3 3 2 BO H BO H O H H + penstabil pH, kira-kira pH nya 3 – 5. Karena waktu proses dikondisikan asam, ini bertujuan untuk mengurangi oksigen sehingga efeknya akan terjadi hidrogen dipermukaaan 2.3.1. kompisisi larutan A. Larutan untuk Pelapis Biasa Komposisi untuk tiap liter air pH rendah pH tinggi Nikel Sulfat Nikel Chlorida Asam Borat Kondisi operasi pH Suhu Rapat Arus 340 graml 45 graml 35 graml 1,5 - 4,5 45 - 60o C 3 - 12 Adm2 240 graml 45 graml 30 graml 45 - 6,0 45 - 70o C 2 - 12 Adm 2 Larutan elektrolit yang digunakan dalam pelapisan dalam jumlah banyak barrel ada beberapa diantaranya B. Larutan Untuk Pelapisan Hitam C. Larutan untuk pelapisan keras 1. Nikel sulfat : 180- 200gramI Nikel chlorida : 45-55 gramI Asam borat : 25-35 gramI Magnesium sulfat : 200-240 gramI Kondisi operasi pH : 5-6 suhu : 20-28dc Voltage : 6-8 2. Nikel sulfat : 140-180 gramI Ammonium chlorida : 30-40 gramI Asam borat : 30-40 gramI Kondisi operasi pH : 5-5,5 Suhu : 30-40 dc Voltage : 9-12 3. Nikel sulfat : 150-200 gramI Nikel chlorida : 150-200 gramI Asam borat : 22,5-25 gramI Kondisi operasi : pH : 4,5-5 Suhu : 50-55 dc Komposisi untuk tiap liter air : Nikel Sulfat : 65-75 gramI Nikel Ammonium Sulfat : 40-45 gramI Seng Sulfat kristal : 35-40 gramI Sodium Thiosianat : 15-20 gramI Kondisi operasi : pH : 5 Suhu : ruangan Rapat arus : 1-2 Adm 2 Sifat mekanik dari lapisan nike keras dapat ditunjukan sebagai berikut: Kekerasan vickers VHN-10 : 425 Kekuatan tarik : 152.000 psi Perpanjangan : 2 dalam 2 inch Larutan yang digunakan adalah sebagai berikut : Komposisi untuk tiap liter air : Nikel Sulfat : 175-185 gramI Ammonium Chlorida : 20-25 gramI Asam Borat : 27 -32 gramI Kondisi operasi : pH : 5,6-5,9 Suhu : 40-50 dc Rapat arus : 3-6 Adm 2 D. Larutan Untuk Pelapisan Mengkilap Larutan yang digunakan dalam pelapisan nikel mengkilap ada beberapa, diantaranya : 2.4.Proses Pelapisan Elektroplating Nikel Larutan 1 tipe watt Total nikel : 75-115 gramI Nikel sulfat : 260-450 gramI Nikel chlorida : 42-115 gramI Asam borat : 37,5-47,5 gramI Brightener : 5-15 mlI Kondisi operasi : pH : 2,8-4,5 Suhu : 40-70 dc Rapat arus : 1-12 Adm 2 Larutan 2 tipe fluoborat Total nikel : 80-115 gram I Nikel fluoborat : 300-440 gramI Asam fluoborat bebas : 10-25 gramI Asam borat : 25-30 gramI Brightener : 5-15 mlI Kondisi operasi : pH : 2,7-3.5 Suhu : 50-60 dc Rapat arus : 2-18 Adm 2 Larutan 3 tipe sulfamat Total nikel : 60-175 gramI Nikel sulfamat : 25-500 gramI Nikel chlorida : 15-42 gramI Asam borat : 30-40 gramI Brightener : 5-15 Adm 2 Kondisi operasi : pH : 3-3,5 Suhu : 50-60 dc Rapat arus : 2-18 Adm 2 Bahan yang akan diproses pembesihan mekanis Degreasing Pencucian lemak Pembilasan dengan air Pickling Pencucian asam Platting proses Proses Pelapisan Finishing Pembilasan dengan air Pembilasan dengan air 1 Alat-alat yang digunakan untuk Pelapisan logam Ni a. Rectifier alat elektronik yang mengubah arus AC menjadi DC Prinsip Transformator. Tegangan sekunder 6-12 volt Arus tergantung luas permukaan yang dilapisi. Semakin besar luas permukaan yang dilapisi maka akan semakin besar arus yang diperlukan. b. Bak pelapis Bak pencucian: pada intinya bak terbuat dari bahan tahan korosi atau tahan degradasi asam. Bahan yang biasa digunakan biasanya jenis fiber dan untuk ukuran disesuaikan dengan benda kerja yang akan diplating. 2 Proses Pencucian pada Pelapisan Ni Proses pencucian ini merupakan tahapan yang harus dilalui sebelum melapis benda kerja yang akan diplatting atau dilapis. Proses-proses tersebut di antaranya: a. Degresing, adalah suatu cara pencucian logam yang mau dilapis dengan menggunakan larutan basa, biasanya NaOH. Tujuannya untuk menghilangkan lemak dari permukaan yang akan dilapis. Lemak harus dibersihkan dari permukaan benda kerja yang akan diplating karena akan mempengaruhi proses plating kurang optimal dan bahkan bisa menyebabkan tidak terjadi penempelanpelapisan. Untuk degresing ada dua jenis :  Degresing elektrik : Menggunakan rectifier arus DC yang dihubungkan dengan benda kerja pada kutub positifnya dan kutub negatifnya pada logam peyeimbang arus bisa digunakan logam baja atau Pb. Lamanya proses degresing ini kurang lebih 10–15 menit tergantung banyaknya lemak. Kalau lemaknya banyak tentu bisa lebih lama lagi. Gambar 2.3. Diagram Rangkaian Proses Ni Platting RECTIFIER + _ NaO H BAJAP B  Degresing non elektrik : Pada degresing non elektrik ini tidak menggunakan alat elektrik. Pada prosesnya digunakan pembersih lain misalnya detergent bisa juga dengan dicelupkan pada larutan alkali. b. Pikling, adalah suatu metode pencucian yang digunakan untuk menghilangkan karat dengan larutan asam HCl, H 2 SO 4 , atau campuran HCl + H 2 SO 4 . Prose pikling tidak jauh beda dengan degresing. Kenapa memakai larutan asam, karena asam bisa melarutkan. HCl adalah asam kuat, digunakan untuk karat yang bandel atau banyak dan mempunyai daya larut lebih baik. H 2 SO 4 , untuk karat yang sedikit dan lebih ekonomis. Untuk benda-benda hasil coran cetakan pasir biasanya ada bekas cetakan pada hasil corannya. Maka digunakan campuran asam HCl + H2SO4 dan juga ongkos kerja untuk pelapisan pada benda coran ini boleh dibilang lebih mahal. 2. Mekanisme Ni Platting Benda kerja di hubungkan dengan kutub negatif rectifier dan logam penyeimbang Ni. Alasan digunakan logam Ni ini karena nantinya Ni ini akan mensuplay Ni yang ada di larutan. Logam Ni ini dihubungkan dengan kutub positif rectifier. Arus akan mengalir logam yang memiliki potensial tinggi ke logam yang memiliki potensial rendah dan elektron akan bergerak sebaliknya. Katoda Terjadi proses reduksi 2 2 2 2 g s H e H Ni e Ni         Anoda Terjadi proses oksidasi e Ni Ni 2 2    temperatur yang cocok untuk Ni sekitar 50-60 o C. Gambar 2.4. Rangkaian proses Recti fier - + Ni 2+ ,Cl - ,SO 4 2- ,H BO 3 Nike l kato da ano da Benda Kerja Gambar 2.5. Mekanisme Pelapisan Ni

BAB III DATA PERCOBAAN DAN PEMBAHASAN