II-1 BAB II TINJAUAN PUSTAKA

BAB II TINJAUAN PUSTAKA

  2.1 Sejarah

  Silikon pertama kali diperkenalkan oleh Antoine Lavoisier pada tahun 1787 sebagai suatu komponen dari silex atau silicis yang biasa dikenal sebagai batu api atau batu keras selama permulaan era modern dimana pada jaman sekarang kita menyebutnya silika atau silikat. Pada tahun 1811 Gay lussac dan Thenard menyiapkan silikon amorphous tidak murni dengan bantuan pemanasan kalium dengan silikon tetrafluorida. Silikon pertama kalinya ditemukan sebagai unsur oleh Berzelius pada tahun 1823. Pada tahun 1824, Berzelius menyiapkan silikon amorphous mengunakan metode yang hampir sama dengan metode Lussac. Berzelius juga telah memurnikan produk yang dihasilkan dengan cara mencucinya berulang – ulang. (Wikipedia, 2008)

  2.2 Silikon

  Silikon (Latin: Silicium) merupakan unsur kimia yang mempunyai simbol Si dan nomor atom 14. Sebagai metaloid tetravalen, silikon kurang reaktif jika dibandingkan dengan karbon yang mempunyai sifat kimia yang hampir sama. Silikon kadang – kadang muncul sebagai unsur bebas murni di alam, tetapi lebih luas terdistribusi dalam tanah liat, feldspar, granit, kuarsa, dan pasir. Kebanyakannya dalam bentuk silikon dioksida (juga dikenali sebagai silika) dan dalam bentuk silikat (beraneka jenis senyawa yang mengandung silikon, oksigen, dan satu atau berbagai jenis logam lain). (Othmer, 1949)

  Berdasarkan massa, silikon meliputi 25,7% dari kerak bumi dan merupakan unsur paling melimpah kedua di bumi, setelah oksigen. Kristal silikon murni kadang

• – kadang hanya ditemukan di alam. Kristal silikon murni ini dapat ditemukan karena penyertaannya dengan emas dan di dalam pengeluaran gunung berapi. Silikon sering kali ditemukan dalam bentuk silikon dioksida (juga dikenal sebagai silika), dan silikat.

  Silika terdapat dalam mineral yang tersusun atas silikon dioksida murni dalam bentuk kristalin yang berbeda – beda. Pasir, batu kecubung, batu akik, kuarsa,

  II-1 silikon dioksida muncul.

  Silikon juga muncul sebagai silikat (berbagai macam mineral yang meliputi silikon, oksigen, dan satu atau logam lainnya), sebagai contoh feldspar. Mineral ini muncul dalam tanah liat, pasir dan berbagai macam tipe batu seperti granit dan batu pasir. Asbestos, feldspar, tanah liat, hornblende, dan mika dalah beberapa contoh dari mineral silikat.

  Silikon merupakan komponen dasar aerolites, yang merupakan golongan meteoroid, dan juga merupakan komponen tektites, yang merupakan bentuk alami kaca. (Wikipedia, 2008)

  2.3 Sifat – Sifat Penting

  Orbital elektron sebelah luar mempunyai struktur yang sama seperti karbon dan kedua elemen ini sangat mirip secara kimia. Walaupun merupakan unsur inert, silikon masih bereaksi dengan halogen dan mengencerkan alkali, tetapi kebanyakan asam (kecuali untuk beberapa kombinasi reaktif dari asam nitrat dan asam fluorida) tidak berpengaruh terhadapnya. Mempunyai empat ikatan elektron seperti karbon, memberikan banyak peluang kepada silikon untuk berkombinasi dengan berbagai unsur atau senyawa.

  Silikon dan karbon merupakan semikonduktor, mudah untuk memberikan ataupun membagi keempat elektron luarnya membentuk berbagai macam ikatan kimia. Silikon murni mempunyai koefisien ketahanan temperatur yang bernilai negatif, karena jumlah free charge carriers meningkat dengan temperatur. Dalam bentuk crystalline , silikon murni berwarna abu – abu dan berkilau seperti logam metalik. Ini mempunyai kesamaan dengan kaca tapi lebih kuat, sangat rapuh, dan mudah untuk dipotong – potong. (Wikipedia, 2008)

  2.4 Isotop

  Silikon memiliki banyak isotop yang terkemuka, dengan range nomor massa

  28

  29

  berkisar dari 22 sampai 44. Si (isotop paling melimpah, yaitu 92,23%), Si

  30

  32

  yang diproduksi oleh argon yang membusuk. (Wikipedia, 2008)

  2.5 Senyawa Silikon

  Beberapa contoh senyawa silikon seperti silicon dioxide (SiO

  2 ), silicic acid

  (H SiO ), silicates, silicate minerals, silicides, silikon keramik seperti silicon carbide

  4

  4

  (SiC) dan silicon nitride (Si

  3 N 4 ), silicon halides seperti silicon tetrachloride (SiCl 4 )

  dan silicon tetrafluoride (SiF

  4 ), trichlorosilane (HsiCl 3 ), silanes [H 2 (SiH 2 ) n ] , organosilicons dan silicons. (Wikipedia, 2008)

  2.6 Aplikasi

  Sebagai unsur paling melimpah kedua di permukaan kulit bumi, silikon penting digunakan untuk industri konstruksi sebagai komponen utama batu alam, kaca, beton, dan semen. Dampak terbesar silikon terhadap ekonomi dan gaya hidup dunia modern adalah disebabkan dari silicon wafers yang digunakan sebagai substrat dalam pabrik alat elektronik khusus seperti power transistors, dan di dalam perkembangan integrated circuits seperti chips komputer.

2.6.1 Alloy (Campuran)

• campuran aluminium – silikon, yang sering juga disebut campuran ringan, untuk menghasilkan bagian – bagian cetakan, terutama untuk industri otomotif. (Ini mewakili sekitar sekitar 55% konsumsi dunia terhadap silikon murni)

  Aplikasi terbesar dari silikon murni (Industrial grade silicon) adalah pada

• baja, dan juga digunakan pada proses produksi besi cetakan. Ini dikenal sebagai ferrosilicon atau campuran silicocalcium.

  Baja dan besi cetakan: Silikon merupakan bahan penting pada beberapa

• Silikon murni juga digunakan untuk menghasilkan silikon ultra murni dan juga aplikasi photovoltaic:

   Semikonduktor: Silikon ultramurni dapat berinteraksi dengan unsur lain untuk mengatur respon elektriknya dengan cara mengatur jumlah dan beban (positif atau negatif) dari aliran arus. Pengaturan seperti ini penting untuk transistor, sel solar,

  integrated circuits , mikro prosesor, detektor semikonduktor, dan

  alat semikonduktor lainnya yang digunakan dalam elektronika dan berbagai aplikasi teknologi tinggi.  Photonics: Silikon dapat digunakan sebagai gelombang kontiniu Raman laser untuk menghasilkan cahaya yang koheren. (Walaupun tidak efektif sebagai sumber cahaya)  LCD dan sel solar: silikon amorphous terhidrogenasi

  (hydrogenated amorphous silicon) secara luas digunakan pada aplikasi produksi bahan – bahan elektronika dengan biaya yang rendah seperti LCD. Bahan ini juga mampu menghasilkan sel solar film tipis dengan biaya yang rendah.

2.6.3 Silicones

  Aplikasi terbesar kedua dari silikon (sekitar 40% konsumsi dunia) adalah sebagai bahan baku dalam produksi silicones, senyawa yang mengandung ikatan

  

silicon-oxygen dan silicon-carbon yang memiliki kemampuan untuk bertindak

  sebagai bahan pengikat (intermediate) antara kaca dan senyawa organik untuk membentuk polimer dengan sifat – sifat yang berguna seperti tidak tembus air, fleksibel, dan tahan terhadap bahan kimia. Silicones digunakan pada perlakuan bahan tahan air, senyawa pencetak dan agen pelepas cetakan, mechanical seals, lemak dan lilin temperatur tinggi, caulking compound, dan bahkan pada aplikasinya yang bermacam – macam seperti bahan peledak, dan pembutan petasan.

• Konstruksi: Silikon dioksida atau silika dalam bentuk pasir atau tanah liat merupakan bahan yang penting pada beton dan batu bata dan juga digunakan untuk menghasilkan semen portland.
• produksi bahan bertemperatur tinggi dan silikat digunakan untuk pembuatan enamel dan pottery ini.

  Pottery/Enamel merupakan bahan tahan panas yang digunakan pada

• dibuat menjadi bentuk yang bermacam-macam dan dengan sifat fisika yang bermacam-macam. Silika juga digunakan sebagai bahan dasar untuk membuat kaca jendela, kontainer, isolator, dan bahan berguna lainnya.

  Kaca: Silika dari pasir merupakan bahan dasar dari kaca. Kaca dapat

• bahan penggosok yang terpenting.

  Bahan penggosok (abrasives): Silikon karbida merupakan salah satu

• silikon.

  Silly Putty: Dibuat dengan cara menambahkan asam boraks dan minyak

2.7 Proses Pembuatan

  Pembuatan silikon dapat dilakukan dengan berbagai cara. Beberapa diantaranya seperti: 1. ) dengan karbon (C) di dalam suatu tungku elektrik

2 Mereaksikan silika (SiO

  o

  menggunakan elektroda karbon. Pada temperatur diatas 1900

  C, karbon mereduksi silika menjadi silikon menurut reaksi sebagai berikut:

  2SiO + 4C  SiO + SiC + 3CO

2 SiO + SiC  2Si + CO

  Silikon cair terkumpul pada bagian dasar tungku, dan kemudian dikeluarkan dan didinginkan. Silikon yang dibuat dengan cara ini dinamakan Industrial grade

  silicon (IGS) dan paling sedikit 98% murni. (WVU Projects, 2008) 2.

  2 ) dalam jumlah yang

  Mereaksikan silikon karbida (SiC) dengan silika (SiO sangat berlebih. Silikon karbida akan disingkirkan dan terbentuk silikon, seperti dijelaskan dalam persamaan reaksi berikut:

  2SiC + SiO

  2  3Si + 2CO

  (wikipedia, 2008) 3.

  ) dengan hidrogen (H ). Hidrogen akan

  

4

  2 Mereaksikan silikon tetraklorida (SiCl

  mereduksi silikon tetraklorida sehingga membentuk silikon dengan reaksi sebagai berikut: (Othmer, 1949) SiCl + 2H  Si + 4HCl

  4

  2 o

  Mereaksikan silikon tetraklorida (SiCl sehingga menghasilkan silikon menurut persamaan reaksi: SiCl

  4 + 2Zn  Si + 2ZnCl

  2

  (Wikipedia, 2008) 5. Pembuatan silikon yang berdasar pada penggunaan fluidized bed menggunakan silana, seperti ditunjukkan pada reaksi berikut:

  3SiCl

  4 + Si + 2 H 2  4HSiCl

  3

  4HSiCl

  3  3SiCl 4 + SiH

4 SiH  Si + 2H

  4

  2

  (Wikipedia, 2008)

  2.8 Seleksi Proses

  Proses pembuatan silikon yang dipilih dalam perancangan pabrik ini adalah reduksi silika dengan menggunakan karbon. Adapun alasan dipilihnya proses ini adalah sebagai berikut: 1.

  Silikon yang dihasilkan memiliki kemurnian yang sangat tinggi (paling sedikit 98% murni) 2. Bahan baku silika dan karbon yang sangat murah dan mudah diperoleh sehingga memudahkan proses pengadaan bahan baku.

  2.9 Pemurnian

  Penggunaan silikon dalam perangkat semikonduktor memerlukan kemurnian silikon yang sangat tinggi. Menurut sejarah, berbagai macam metode telah digunakan untuk menghasilkan silikon dengan kemurnian yang tinggi.

2.9.1 Metode Fisika

  Pada awalnya teknik pemurnian silikon adalah berdasar pada kenyataan dimana silikon dileburkan dan dipadatkan kembali, bagian akhir dari tumpukan yang akan dipadatkan mengandung sebagian besar impuritis. Metode pemurnian silikon paling pertama diperkenalkan pada tahun 1919 dan digunakan pada dasar yang terbatas untuk membuat komponen radar selama perang dunia kedua, melibatkan silikon yang telah dihancurkan dan kemudian secara bertahap tepung silikon bagian yang kemurniaanya rendah berada pada bagian luar dari butiran silikon yang dihasilkan. Sebagai hasilnya, silikon yang mempunyai kemurnian tinggi yang terlebih dahulu larut ketika dilarutkan dalam asam, dan akhirnya menghasilkan produk yang lebih murni.

  Pada zona peleburan (melting), juga disebut sebagai zona penyulingan (refining), metode pemurnian silikon pertama yang digunakan secara luas dalam industri, batang silikon dipanaskan dan dileburkan pada suatu tempat. Kemudian, pemanasnya secara perlahan menurunkan panjang silikon, dan menimbulkan batang kecil karena silikon mengalami pendinginan dan pemadatan kembali. Karena sebagian besar impuritis cenderung terdapat pada bagian yang dileburkan daripada bagian yang dipadatkan kembali, ketika proses berakhir, sebagian besar impuritis dalam batang akan bergerak menuju suatu tempat. Bagian ini kemudian dibuang, dan prosesnya diulang kembali jika diinginkan kemurnian yang lebih tinggi.

2.9.2 Metode Kimia

  Sekarang, silikon dimurnikan dengan cara mengubahnya menjadi senyawa silikon yang dapat dengan lebih mudah dimurnikan daripada keadaan alaminya. Kemudian senyawa tersebut diubah kembali menjadi silikon yang murni. Triklorosilana merupakan senyawa silikon yang paling umum digunakan sebagai

  

intermediate , walaupun silikon tetraklorida dan silana juga digunakan. Ketika gas ini

  mengalir diatas silikon pada temperatur tinggi akan menyebabkan terdekomposisi menjadi silikon dengan kemurnian yang tinggi.

  Pada Proses Siemen, batang silikon dengan kemurnian yang tinggi

  o

  menguraikan triklorosilana pada 1150

  C. Gas triklorosilana akan terdekomposisi dan mengendapkan tambahan silikon dalam batang silikon.

  2HSiCl

  3  Si + 2HCl + SiCl

4 Silikon yang diproduksi dengan cara demikian disebut polycrystalline silicon.

• 9 Polycrystalline silicon mempunyai tingkat impuritis kurang dari 10 .

  2.10.1 Silikon Dioksida (SiO 2 ) 1.

  Berat molekul : 60,086 gr/mol 2.

  : 6,82 kJ/mol 7. Temperatur kritis : 154,59 K

  : 0,444 kJ/mol 6. Panas penguapan

  C, 101.325 kPa) : 1,429 gr/l 5. Panas peleburan

  3. Titik lebur : –218,4 C

  Titik didih : –183 C

  Berat molekul : 32 gr/mol 2.

  (Wikipedia, 2008)

  : 80 – 230 W/m K 6. Struktur atom : heksagonal

  C : 8,517 J/mol K 5. Konduktivitas Termal (300K)

  o

  Kapasitas panas pada 25

  3 4.

  : 1,9 – 2,3 gr/cm

  C 3. Densitas

  o

  2. Titik lebur : 3652

  Berat atom : 12,0107 gr/mol

  Massa jenis : 2,2 gr/cm

  3 3.

  Titik lebur : 1650 (± 75)

  o

  C 4. Titik didih

  : 2230

  o

  C 5. Kelarutan dalam air

  : 0,012 gr dalam 100 gr 6. Konduktivitas Termal

  : 0,01 W/cm K 7. Struktur molekul

  : tetrahedal 8. Berwarna putih 9.

  Berbentuk serbuk padat (dalam keadaan murni) 10.

  Tidak dapat terbakar (Wikipedia, 2008)

  2.10.2 Karbon (C) 1.

7. Berwarna hitam

2.10.3 Oksigen (O 2 ) 1.

4. Densitas (0

  Tekanan kritis 9. ) : 29,378 J/mol K

  Kapasitas panas (25 10.

  Merupakan unsur diatomik (Wikipedia, 2008)

  2.10.4 Nitrogen (N )

  2

  1. : 14,0067 gr/mol Berat molekul

  2. didih : –195,8 C Titik

  3. lebur : –209,86 C Titik

  4. kritis : 126,26 C Temperatur

  5. : 33,54 atm Tekanan kritis 6.

  C, 1 atm) : 1,25046 gr/l Densitas (25

  7. : 172,3 kal/mol Panas peleburan

  8. : 1332,9 kal/mol Panas penguapan 9.

  Gas yang tidak berbau, berasa dan berwarna 10.

  Merupakan unsur diatomik (Wikipedia, 2008)

  2.10.5 Air (H O)

  2 1.

  : 18,016 gr/mol Berat molekul

  2. didih : 100 C Titik

  3. beku : C Titik 4.

  c) : 0,998 gr/ml Densitas (25 5.

  Viskositas (pada kondisi standar, 1 atm) : 8,949 mP 6.

  c) : 0,0212 atm Tekanan uap (20 7.

  : 6,013 kJ/mol Panas pembentukan 8.

  : 4,180 J/kg K Panas spesifik (pada kondisi standar)

  5

  9. penguapan : 22,6.10 J/mol Panas

  10. panas : 4,22 kJ/kg K Kapasitas 11.

  Tidak berbau, berasa dan berwarna (Othmer, 1968)

  1. Berat molekul : 56,8 gr/mol

6. Berwarna putih.

2.10.7 Silikon (Si) 1.

  7. Kapasitas panas (25

  (Wikipedia, 2008)

  C) : 0,07 cP 6. Gas yang tidak berwarna dan berbau

  o

  C 5. Viskositas (pada -78

  o

  C 4. Titik didih : -78

  o

  : 1,6 g/L, padat; 1,98 g/L, gas 3. Titik lebur : -57

  Berat molekul : 44,01 gr/mol

  (Wikipedia, 2008)

  C) : 19,789 J/mol K 8. Bentuk padat 9. Silikon murni berwarna abu-abu

  o

  : 50,21 kJ/mol 6. Panas penguapan : 359 kJ/mol

  2. Massa jenis : 3350 kg/m

  C 5. Panas pembentukan

  3 3.

  Titik lebur : 2572

  o

  C 4. Titik didih : 2850

  o

  C 5. Tidak larut dalam air, tetapi bereaksi dengan air.

  (Wikipedia, 2008)

  Berat molekul : 28,086 gr/mol

  2. Densitas : 2,53 gr/cm

  3 3.

  Titik lebur : 1420

  o

  C 4. Titik didih : 2355

  o

2.10.8 Karbondioksida (CO 2 ) 1.

2. Massa jenis

  1. Berat molekul : 32,064 gr/mol

  : 2,07 gr/cm

2. Densitas

2.10.10 Metana (CH

  Gas tidak berwarna (Wikipedia, 2008)

  : 4,7 gr/100ml 6. Mudah terbakar 7.

  (gas) : 1,212 kg/m³ 5. Kelarutan dalam air

  : – 88,6 °C 4. Densitas

  Titik lebur : – 182,76 °C

  Berat molekul : 30,07 gr/mol 2.

  6 ) 1.

  Gas tidak berwarna (Wikipedia, 2008)

  C) : 3,5 mg/100 mL 6. Mudah terbakar 7.

  o

  5. Kelarutan dalam air (17

  4. Titik didih : -161,6 °C

  Titik lebur : -182,5 °C

  3 3.

  2. Densitas : 0,717 kg/m

  3 3.

  Titik lebur : 115,21

  o

  C 4. Titik didih : 444,6

  o

  C 5. Kapasitas panas (25

  o

  C) : 22,75 J/mol K 6. Panas penguapan :

  45 kJ/mol 7. Panas pembentukan

  : 1,727 kJ/mol 8. Bentuk kristal padatan 9.

  Berwarna kuning (Wikipedia, 2008)

  4 ) 1.

  Berat molekul : 16,0425 gr/mol

2.10.11 Etana (C

2 H

3. Titik didih

  1. molekul : 44,096 gr/mol Berat

  2. (gas) : 1,83 kg/m3 Densitas

  3. (cair) : 0,5077 kg/L Densitas

  4. lebur : Titik −187,6 °C

  5. didih : −42.09 °C

  Titik

  3 6.

  : 0,1 g/cm Kelarutan dalam air (37,8 °C) 7.

  Mudah terbakar 8. Gas tidak berwarna

  (Wikipedia, 2008)

2.10.13 Butana (C

4 H 10 )

  1. molekul : 58,124 gr/mol Berat 2.

  : 2,48 g/l Densitas (15 °C, 1 atm)

  3. lebur : Titik −138,4 °C

  4. didih : −0,5 °C

  Titik 5.

  : 6.1 mg/100 ml Kelarutan dalam air (20 °C) 6.

  Mudah terbakar 7. Gas tidak berwarna

  (Wikipedia, 2008)

2.11 Deskripsi Proses

  Secara keseluruhan proses perancangan pabrik pembuatan industrial grade

  

silicone (IGS) ini terdiri dari dua bagian proses, yaitu proses reaksi menghasilkan

  silikon dari karbon dan pasir silika, dan proses pemanfaatan gas buang untuk menghasilkan steam tekanan tinggi yang dimanfaatkan untuk menghasilkan energi listrik yang digunakan pada bagian proses reaksi.

  Bahan baku utama yang digunakan dalam keseluruhan proses pembuatan IGS ini adalah karbon (C) dan pasir silika (SiO ).

  

2 Partikel pasir silika (SiO ) pada alur 1 dan karbon (C) pada alur 2 dikirimkan

  2

  melalui bucket elevator I (BE-101) pada alur 3 menuju fluidized bed preheater (H-101). Di dalam Fluidized bed preheater, kedua campuran tersebut kemudian

  

o

  dipanaskan hingga suhunya mencapai 1500

  C. Panas yang digunakan dalam proses pemanasan ini berasal dari proses pembakaran antara gas alam pada alur 4 dengan udara bebas pada alur 5 di di dalam burner (B-101). Gas hasil pembakaran inilah yang dikirimkan melalui alur 6 ke fluidized bed preheater (H-101) sebagai pemanas.

  o

  Pada temperatur ini (1500 C), tidak ada reaksi yang terjadi antara silika dan karbon. Karbon dan silika yang telah dipanaskan, serta sulfur yang yang berasal dari gas alam kemudian dikirim melalui bucket elevator II (BE-102) pada alur 8 menuju tungku reduksi elektrik (R-101). Pada tungku reduksi ini terjadi reaksi antara karbon dengan silika yang kemudian menghasilkan silikon. Selain itu, silika juga dapat bereaksi dengan sulfur yang berasal dari gas alam dan menghasilkan silikon serta gas sulfur dioksida (SO

  2 ).

  Adapun reaksi yang terjadi pada tungku reduksi untuk menghasilkan silikon adalah sebagai berikut:

  2SiO

  2 + 4C  SiO + SiC + 3CO

  SiO + SiC  2Si + CO SiO

  2 + S  SO 2 + Si o

  Reaksi yang terjadi pada tungku reduksi ini berlangsung pada suhu 2045 C. Konversi sebesar 90% dicapai pada reaksi antara silika dengan karbon menghasilkan silikon.

  Silikon yang terbentuk pada dasar tungku kemudian dialirkan keluar pada alur 12 dan didinginkan. Sedangkan silika dan karbon yang tidak bereaksi pada alur 11 dikirim ke unit pengolahan limbah. Gas karbon monoksida (CO) yang dihasilkan dari reaksi kemudian teroksidasi oleh oksigen dari udara bebas pada alur 10 menghasilkan gas karbon dioksida (CO 2 ).

  Gas buang dari fluidized bed preheater (H-101) yang terdiri dari oksigen (O

  2 ), nitrogen (N 2 ), karbon dioksida (CO 2 ), dan air (H

  2 O) pada alur 7 yang

  dihasilkan dari reaksi pembakaran antara gas alam dengan udara bebas di dalam (H-101) serta Gas buang dari tungku reduksi yang terdiri

  fluidized bed preheater dikirim ke bagian proses pemanfaatan gas buang pada alur 13 untuk menghasilkan

  steam tekanan tinggi yang digunakan untuk membangkitkan energi listrik dan kemudian dikonsumsi pada bagian proses reaksi di tungku reduksi elektrik (R-101).

2.11.2 Bagian Proses Pemanfaatan Gas Buang

  Gas buang pada alur 13 dialirkan ke steam boiler (E-201), dimana gas tersebut menyuplai energi untuk menghasilkan steam tekanan tinggi pada alur 16.

  Boiler feed water pada alur 14 dipompakan pada tekanan 40,8 Mpa untuk

  menghasilkan steam tekanan tinggi. Steam ini pada alur 16 kemudian dialirkan ke turbin (T-201), dimana energi listrik dibangkitkan dan digunakan pada tungku reduksi elektrik (R-101).

  Untuk menjaga agar udara bersih, senyawa SO

  2 di dalam gas buang pada alur

  18 harus dihilangkan. Kadar SO

  2 di dalam gas buang sebelum dibuang ke udara

  bebas tidak boleh melebihi 0,5 ppm. Dengan digunakannya kalsium oksida (CaO) di dalam fluidized bed scrubber (R-201) dapat mereduksi SO yang terdapat di dalam

  2

  gas buang. Dengan perbandingan antara kalsium oksida dan sulfur dioksida 2,5 : 1, diamati bahwa sulfur dioksida tidak ditemukan lagi dalam gas buang.

  Kalsium oksida pada alur 19 diumpankan melalui bucket elevator III (BE-201) pada bagian atas fluidizing gas yang berasal dari gas buang pada alur 18.

  Fluidizing gas dari alur 18 mengandung karbon dioksida, air, nitrogen, oksigen, dan

  sulfur dioksida. Disini terjadi reaksi antara kalsium oksida dengan sulfur dioksida membentuk kalsium sulfat. Reaksinya ditunjukkan pada persamaan reaksi dibawah ini:

  SO

  2 + CaO  CaSO

  3 CaSO + ½ O  CaSO

  3

  

2

  4 Gas buang pada alur 20 yang sudah tidak mengandung sulfur dioksida

  dibuang secara bebas ke udara. Sedangkan kalsium sulfat yang terbentuk pada alur 21 dikirim ke unit pengolahan limbah.