Logam yang dilapisi adalah plat baja AISI 1023

commit to user 16

3.2. Bahan Penelitian

Bahan yang digunakan dalam penelitian ini :

1. Logam yang dilapisi adalah plat baja AISI 1023

2. Logam pelapis anoda - Tembaga copper - Nikel nickel - Khrom chromium 3. Larutan elektrolit - Komposisi pembuatan larutan untuk pelapisan tembaga : - CuCN 26,25 gr1 - NaK C 4 H 4 O 6 45 gr1 - NaCN 34,50 gr1 - Bright Gl-3 5 ml1 - Na 2 Co 3 30 gr1 - Bright Gl-4 8 ml1 Cara pembuatan : - Timbang bahan–bahan sesuai dengan berat dan keperluannya. - Sediakan air bersih sebanyak 6 liter. - Empat setengah liter air tersebut dimasukkan ke dalam bak. - Masukkan bahan-bahan yang telah tersedia seperti komposisi diatas secara berurutan sebagai berikut : a Masukkan sodium sianida dan aduk hingga larut. b Masukkan tembaga sianida dan aduk hingga larut. c Masukkan sodium karbonat dan aduk hingga larut. d Masukkan rochelle dan aduk hingga larut. e Setelah semuanya larut, air yang sisa satu setengah liter dimasukkan sambil diaduk hingga homogen, kemudian biarkan selama ± 4 jam, lalu disaring. No P mm L mm T mm 1 100 30 0,7 2 85 30 0,7 3 75 30 0,7 4 55 30 0,7 commit to user 17 f Setelah itu masukkan brightener gl-3 dan gl-4 sambil diaduk hingga homogen. g Kemudian larutan dibiarkan kembali selama lebih kurang 4 jam, kemudian baru boleh digunakan. - Komposisi pembuatan larutan untuk pelapisan nikel : - NiSO 4 250 gr1 - Karbon aktif 2 gr1 - NiCL 2 50 gr1 - Bright I-06 5 ml1 - H 3 BO 3 40 gr1 - Bright M-07 2 ml1 Cara pembuatan : - Timbang bahan–bahan sesuai dengan berat dan keperluannya. - Sediakan air bersih sebanyak 6 liter. - Empat setengah liter air tersebut dimasukan ke dalam bak. - Masukkan bahan-bahan yang telah tersedia seperti komposisi diatas secara berurutan sebagai berikut : a Masukkan nikel sulfat dan aduk hingga larut. b Masukkan nikel khlorida dan aduk hingga larut. c Masukkan boric acid dan aduk hingga larut. d Setelah semuanya larut masukkan karbon aktif sambil diaduk hingga homogen, kemudian air yang sisa satu setengah liter dimasukkan sambil diaduk hingga homogen. e Biarkan larutan selama ± 4 jam, kemudian disaring. f Setelah disaring masukkan brightener i-06 dan m-07, lalu dibiarkan lagi selama ± 4 jam. g Larutan siap untuk digunakan. - Komposisi pembuatan larutan untuk pelapisan khorm : - CrO 3 250 gr1 - H 2 SO 4 2,5 ml1 Cara pembuatan : - Timbang bahan–bahan sesuai dengan berat dan keperluannya. - Sediakan air bersih sebanyak 6 liter. - Empat setengah liter air tersebut dimasukkan ke dalam bak. commit to user 18 - Masukkan bahan-bahan yang telah tersedia seperti komposisi diatas secara berurutan sebagai berikut : a Masukkan khrom oksida dan aduk hingga larut. b Masukkan asam sulfat secara perlahan-lahan sambil diaduk hingga larut. c Sisa air satu setengah liter dimasukkan juga sambil diaduk. d Biarkan larutan selama ± 4 jam, kemudian dilakukan penyaringan. e Setelah dilakukan penyaringan, biarkan lagi larutan selama ± 4 jam. f Larutan yang telah mengalami penyaringan dan pengendapan selama ± 4 jam, sudah bisa digunakan.

3.3. Mesin Dan Alat Yang Digunakan

Dokumen yang terkait

PENGARUH WAKTU TERHADAP KETEBALAN DAN ADHESIVITAS LAPISAN PADA PROSES ELEKTROPLATING KHROM DEKORATIF TANPA LAPISAN DASAR, DENGAN LAPISAN DASAR TEMBAGA DAN TEMBAGA NIKEL

0 5 45

TUGAS AKHIR Analisia Pengaruh Waktu Tahan Celup Terhadap Ketebalan Lapisan Dan Kekasaran Permukaan Lapisan Tembaga Pada Proses Elektroplating Baja Karbon Sedang.

0 1 16

PANDAHULUAN Analisia Pengaruh Waktu Tahan Celup Terhadap Ketebalan Lapisan Dan Kekasaran Permukaan Lapisan Tembaga Pada Proses Elektroplating Baja Karbon Sedang.

0 2 8

TUGAS AKHIR PENGARUH VARIASI ARUS LISTRIK TERHADAP Pengaruh Variasi Arus Listrik Terhadap Ketebalan Lapisan Tembaga Pada Proses Elektroplating Plat Baja Karbon Rendah.

0 2 17

PENDAHULUAN Pengaruh Variasi Arus Listrik Terhadap Ketebalan Lapisan Tembaga Pada Proses Elektroplating Plat Baja Karbon Rendah.

1 3 6

PENGARUH VARIASI ARUS LISTRIK TERHADAP KETEBALAN LAPISAN TEMBAGA PADA PROSES Pengaruh Variasi Arus Listrik Terhadap Ketebalan Lapisan Tembaga Pada Proses Elektroplating Plat Baja Karbon Rendah.

0 2 19

PENGARUH KETEBALAN DAN KEKERASAN PADA PEMBUATAN DIES DENGAN METODE ELEKTROPLATING TEMBAGA, NIKEL DAN KHROM DENGAN RAPAT ARUS 5 AMPERE DAN VARIASI WAKTU PENCELUPAN 1200 s, 1800 s, 2400 s PADA POLIMER.

1 1 9

PEMBUATAN DIES DENGAN METODE ELEKTROPLATING TEMBAGA NIKEL DAN KHROM DENGAN VARIASI WAKTU PENCELUPAN 2400 s, 3000 s, 3600 s DAN RAPAT ARUS 7 AMPERE PADA POLIMER.

1 1 9

PENGARUH VARIASI TEMPERATUR LARUTAN ELEKTROLIT TERHADAP KETEBALAN LAPISAN, NILAI KEKERASAN, DAN LAJU KOROSI PADA PROSES ANODIZING.

0 0 7

Pengaruh Rapat Arus Terhadap Ketebalan Dan Struktur Kristal Lapisan Nikel pada Tembaga.

0 0 6