mengandung aktivator kimia yang dapat mengaktifkan benzoil peroksida yang terdapat di dalam polimer sehingga dapat terjadi proses polimerisasi. Aktivator kimia
yang biasanya digunakan adalah amina tersier, contohnya adalah
dimetil paratoluidin
. Disebabkan oleh stabilisasi warna yang kurang baik, kekuatan yang cukup rendah dan
jumlah monomer sisa yang dihasilkan lebih banyak dari monomer sisa yang dihasilkan oleh resin akrilik polimerisasi panas maka bahan ini sering tidak
direkomendasi untuk digunakan dalam pembuatan basis gigitiruan.
3,6,11,34
Resin akrilik polimerisasi panas terdiri dari cairan dan bubuk dimana setelah mengalami proses pemanipulasian dan pemanasan akan membentuk suatu bahan yang
kaku. Resin akrilik polimerisasi panas dapat digunakan untuk pembuatan semua basis gigitiruan. Kebutuhan energi panas untuk proses polimerisasi bahan basis gigitiruan
ini, dapat diperoleh dengan
waterbath
ataupun oven gelombang mikro.
3,6,11,34
2.3 Resin Akrilik Polimerisasi Panas
Resin akrilik polimerisasi panas digunakan dalam pembuatan semua basis gigitiruan karena harganya murah, estetis yang baik dan mudah dimanipulasi. Energi
termal yang diperlukan untuk polimerisasi bahan-bahan tersebut dapat diperoleh dengan menggunakan
waterbath
atau oven gelombang mikro. Penggunaan energi termal akan menyebabkan dekomposisi benzoil peroksida sebagai inisiator yang
dapat mengawali proses polimerisasi. Namun resin ini tetap memiliki beberapa kelemahan yaitu mudah mengalami fraktur dan kekuatan terhadap benturan
rendah.
3,6,11,34
2.3.1 Komposisi
Komposisi resin akrilik polimerisasi panas terdiri dari:
5,7,11,33,34
A. Bubuk
1. Polimer
: poli metil metakrilat 2.
Initiator
: berupa 0,2 – 0,5 benzoil peroksida
3. Pigmen
: merkuri sulfit atau kadmium sulfide 4.
Plasticizer
:
dibutil phthalate
Universitas Sumatera Utara
5.
Opacifiers
: Seng Titanium oksida
B. Cairan
1. Monomer
: metil metakrilat 2.
Cross-linking agent
:
ethyleneglycol dimethylacrylate
3. Inhibitor
:
hydroquinone
2.3.2 Manipulasi
Resin akrilik polimerisasi panas dapat diproses dalam sebuah kuvet dengan menggunakan teknik
pressure-moulding
. Perbandingan polimer bubuk dan monomer cairan yang ideal adalah 3:1 berdasarkan volume dan 2,5:1 berdasarkan
berat. Pada saat pemanipulasian bubuk dan cairan akan melewati empat tahap
stage
yaitu:
3,33,34,37
1. Tahap pertama:
Sandy stage
adalah terbentuknya campuran yang meyerupai pasir basah.
2. Tahap kedua:
Sticky stage
adalah saat bahan akan melekat ketika bubuk mulai larut dalam cairan dan berserat ketika ditarik.
3. Tahap ketiga:
Dough stage
adalah tahap dengan konsistensi adonan mudah diangkat dan tidak melekat lagi serta merupakan waktu yang tepat memasukkan
adonan ke dalam mold dan kebanyakan dicapai dalam waktu 10 menit.
3,37
4. Tahap empat:
Rubber hard stage
adalah berwujud seperti karet dan tidak dapat dibentuk dengan tekanan konvensional.
Setelah adonan resin akrilik mencapai
dough stage
, adonan diisi dalam mold gips. Setelah pengisian adonan, dilakukan tekanan pres pertama sebesar 1000 psi
untuk mencapai mold terisi dengan padat dan kelebihan resin dibuang. Kemudian dilakukan tekanan press terakhir mencapai 2200 psi lalu kuvet dikunci. Proses
pembuatan basis gigitiruan resin akrilik polimerisasi panas dalam
waterbath
terbagi menjadi dua teknik. Teknik pertama adalah kuvet dibiarkan pada suhu 60°C
– 70 C
selama 9 jam siklus panjang, teknik kedua adalah kuvet dipanaskan pada suhu 70°C
Universitas Sumatera Utara
selama 90 menit, kemudian suhu dinaikkan menjadi 100°C dan dipertahankan selama 30 menit.
3,19,33,34,41
Setelah prosedur polimerisasi resin akrilik polimerisasi panas selesai, kuvet dibiarkan mendingin secara perlahan sehingga mencapai suhu kamar. Pelepasan
internal stress
yang cukup dapat meminimalkan perubahan bentuk basis gigitiruan. Selanjutnya dilakukan pemisahan kuvet dengan hati-hati untuk menghindari terjadi
fraktur atau distorsi pada basis gigitiruan. Setelah itu, basis gigitiruan resin akrilik diproses akhir dan dipolis mengunakan bur stone hijau,
carbide bur, silicone bur, rag
wheel
dan serbuk pumice basah.
3,14,33,34,37
2.3.3 Sifat
