Latar Belakang Tujuan Penelitian Perumusan Masalah

BAB I PENDAHULUAN

1.1 Latar Belakang

Dalam beberapa dekade terakhir terjadi paradigma baru dalam fabrikasi dunia material ferroelectric semikonduktor, yaitu dalam bentuk lapisan film. Perangkat dan bahan film dapat meminimalkan bahan beracun karena kuantitas penggunaannya pada permukaan dan atau lapisan film terbatas 1 . Material yang digunakan dalam pembuatan lapisan tipis ini adalah litium niobat LiNbO 3 . Litium niobat merupakan bahan ferroelektrik penting karena sifat-sifat piezoelektrik, electrooptical, pyroelectrical dan photorefractive yang sangat baik 2 . Pembuatan litium niobat menggunakan peralatan yang cukup sederhana, biaya lebih murah dan dilakukan dalam waktu yang relatif singkat. Terdapat berbagai macam metode yang digunakan dalam pembuatan film, antara lain berupa teknik deposisi film seperti sputtering, pulsed laser deposition PLD, chemical solution deposition CSD dan chemical vapor deposition CVD 3 . Sedangkan dalam penelitian ini, metode yang digunakan yaitu metode CSD. Keunggulan metode ini dapat mengontrol stokiometri film dengan kualitas yang baik, prosedur yang mudah, dilakukan pada suhu kamar dan biaya yang relatif murah 4,5 . Penelitian lapisan tipis litium niobat yang dilakukan adalah untuk membuat film litium niobat dan menguji sifat optiknya berupa absorbansi, reflektansi, celah energi dan indeks bias. Perlakuan pada sampel yang digunakan berupa perlakuan suhu dan lama waktu annealing. Pada perlakuan suhu, sampel dipanaskan dengan suhu 800 C, 850 C dan 900 C, sedangkan pada perlakuan waktu annealing sampel selama 1 jam, 8 jam, 15 jam dan 22 jam.

1.2 Tujuan Penelitian

Tujuan penelitian ini adalah untuk menumbuhkan film litium niobat pada substrat silikon tipe-p dan kemudian diuji sifat optik dari film yang dibuat.

1.3 Perumusan Masalah

Pada penelitian ini bahan LiNbO 3 ditumbuhkan di permukaan substrat silikon dengan metode chemical solution deposition CSD dengan memperhatikan pengaruh suhu dan waktu annealing dengan variasi 800 o C, 850 o C dan 900 o C selama 1 jam, 8 jam, 15 jam dan 22 jam. Kemudian film diuji sifat optik berupa absorbansi, reflektansi, celah energi dan indeks bias.

1.4 Hipotesis