Proses Annealing X-ray Diffraction XRD

2.2 Litium Tantalat LiTaO

3 Litium tantalat LiTaO 3 merupakan suatu bahan yang memiliki keunikan dari segi sifat pyroelectric dan piezoelectric yang terpadu dengan stabilitas mekanik dan kimia yang baik. Oleh karena itu LiTaO 3 sering digunakan untuk beberapa aplikasi misalnya modulator electro-optical dan detektor pyroelectric. LiTaO 3 merupakan kristal non-hygroskopis, tidak berwarna, larut dalam air, memiliki tingkat transmisi yang tinggi dan tidak mudah rusak sifat optiknya. LiTaO 3 merupakan bahan yang memiliki konstanta dielektrik yang tinggi serta kapasitas penyimpanan muatan yang tinggi. 7 Pembuatan LiTaO 3 menggunakan peralatan yang cukup sederhana, biaya murah dan dilakukan dalam waktu relatif singkat. LiTaO 3 merupakan campuran hasil reaksi antara Litium asetat [LiO 2 C 2 H 3 , 99,9] dan Tantalum oksida [Ta 2 O 5 , 99,9]. Berikut ini persamaan reaksi menghasilkan LiTaO 3 : 2 LiO 2 C 2 H 3 + Ta 2 O 5 + 4O 2 2 LiTaO 3 + 3 H 2 O + 4 CO 2 LiTaO 3 merupakan kristal ferroelectric yang mengalami proses suhu currie tinggi sebesar 601±5,5 o C. Massa jenis LiTaO 3 sebesar 7,45 gcm 3 yang digunakan untuk menghitung ketebalan film. 8 LiTaO 3 merupakan objek yang diteliti secara intensif selama beberapa tahun terakhir karena memiliki sifat yang unik. Berdasarkan penelitian, bahan LiTaO 3 merupakan semikonduktor tipe-n karena konsentrasi elektron yang dimiliki oleh material LiTaO 3 tersebut lebih banyak dibandingkan dengan konsentrasi hole-nya.

2.3 P-N Junction

Cara kerja sebagian besar piranti semikonduktor berlandaskan pada sifat sambungan antara bahan tipe-n dan tipe-p. Sambungan seperti itu dapat dibuat dengan beberapa cara, misalnya pendifusian ketidakmurnian dalam bentuk uap ke dalam wafer semikonduktor. Sifat penting sambungan semikonduktor p-n adalah arus listrik dapat melewatinya lebih mudah pada suatu arah tertentu daripada arah yang berlawanan dengan arah itu. Bahan semikonduktor tipe-p terdiri atas unsur-unsur dalam golongan IVA pada sistem periodik seperti Si. Bahan semikonduktor tipe-n terdiri atas unsur-unsur dalam golongan V dan golongan III pada sistem periodik. 6 P-N junction adalah daerah pertemuan yang terjadi apabila semikonduktor tipe-p dan semikonduktor tipe-n dipertemukan. Nama lain untuk persambungan semikonduktor tipe-p dan semikonduktor tipe-n yang membentuk kristal adalah dioda. 9 Dioda adalah suatu komponen elektronik yang dapat melewatkan arus pada satu arah saja. Dioda memegang peranan penting dalam elektronika, antara lain untuk menghasilkan tegangan searah dari tegangan bolak-balik, untuk membuat berbagai bentuk gelombang isyarat, untuk mengatur tegangan searah agar tidak berubah dengan beban maupun dengan perubahan tegangan, untuk saklar elektronik, LED, laser semikonduktor. 6

2.4 Metode Chemical Solution Deposition

CSD Metode chemical solution deposition CSD adalah salah satu metode pembuatan film dengan menggunakan larutan yang diletakkan di permukaan substrat kemudian diputar dengan kecepatan tertentu menggunakan alat spin coating. Proses spin coating dapat dipahami dengan perilaku aliran larutan pada piringan substrat yang berputar. Metode CSD memiliki kontrol stoikiometri yang baik, mudah dalam pembuatannya serta sintesisnya terjadi pada suhu rendah. 10 Kelajuan spin coater merupakan salah satu faktor yang dapat mempengaruhi keluaran film yang dihasilkan oleh metode spin coating . Perbedaan laju spin coater ± 50 rpm dapat menyebabkan perbedaan ketebalan film yang dihasilkan dari proses tersebut sekitar ± 10 . Selain kelajuan spin coater terdapat beberapa parameter lagi yang menjadi faktor yang dapat mempengaruhi sifat film diantaranya adalah waktu spinning. Pemberian waktu spin lebih lama dapat mengakibatkan film yang dihasilkan semakin tipis untuk molaritas gel yang sama. Tebal tipisnya suatu film yang ditumbuhkan biasanya dipengaruhi oleh laju putaran spin coater , material untuk membuat film, substrat serta waktu putaran yang diberikan. 11

2.5 Proses Annealing

Proses annealing merupakan suatu proses pemanasan yang diberikan kepada material dengan menaikkan suhunya dalam rentang waktu yang panjang sehingga mencapai suhu rekristalisasi kemudian menurunkannya secara perlahan hingga suhu pada tungku anneal mencapai suhu ruang. Biasanya proses annealing digunakan untuk mengurangi tekanan, meningkatkan kehalusan butir, meningkatkan kehomogenan butir, meningkatkan kekerasan dan menciptakan suatu struktur mikro yang spesifik. 12,13 Tahapan dari proses annealing ini dimulai dengan memanaskan material sampai suhu yang diinginkan, menahan pada suhu tersebut selama beberapa waktu tertentu agar tercapai perubahan yang diinginkan kemudian mendinginkan material tadi dengan laju pendinginan yang cukup lambat hingga suhu kamar. Proses annealing pada suhu yang berbeda akan menghasilkan karakterisasi film yang berbeda dalam hal struktur kristal, ukuran butir dan ketebalan. Proses annealing yang diberikan pada suatu film mengakibatkan energi atom-atom penyusun film berikatan antara satu atom dengan atom lainnya. Efek proses annealing tersebut adalah orientasi kristal yang dimiliki oleh suatu film akan menjadi lebih teratur dibanding dengan film yang tidak dilakukan proses annealing.

2.6 X-ray Diffraction XRD

Struktur kristal dipelajari menggunakan metode X-ray diffraction XRD. Orde panjang gelombang sinar-X hampir sama dengan jarak antar atom pada kristal, maka sinar-X dapat didifraksi oleh kristal. Pola difraksi sinar-X muncul akibat hamburan atom-atom yang terletak pada bidang hkl dalam kristal dan pola intensitas difraksi mengandung informasi penting mengenai struktur kristalografi suatu bahan. 14 Metode karakterisasi dengan XRD didasari sifat difraksi sinar-X yang dijelaskan dalam hukum Bragg. Cahaya pada panjang gelombang Cu = 1,50546 Å dihamburkan saat melewati kisi kristal dengan sudut datang θ dan jarak antar bidang sebesar d. Metode difraksi sinar-X adalah salah satu cara untuk mempelajari keteraturan atom atau molekul dalam suatu struktur tertentu. Jika struktur atom atau molekul tertata secara teratur membentuk kisi, maka radiasi elektromagnetik pada kondisi eksperimen tertentu akan mengalami penguatan. Pengetahuan tentang kondisi eksperimen itu dapat memberikan informasi yang sangat penting tentang penataan atom atau molekul dalam suatu struktur. Sinar-X dapat terbentuk bilamana suatu logam sasaran ditembaki dengan berkas elektron berenergi tinggi. Dalam eksperimen digunakan sinar-X yang monokromatis. Kristal akan memberikan hamburan yang kuat jika arah bidang kristal terhadap berkas sinar-X sudut memenuhi persamaan 2.6.1: 2d sin  = nλ 2.6.1 Keterangan: d jarak antar bidang dalam kristal cm ,  sudut difraksi ° , n orde 0,1,2,3,... dan  panjang gelombang Cu = 1,50546 Å. 15 Berdasarkan teori difraksi, sudut difraksi untuk data yang diperoleh dari metode karakteristik XRD bergantung kepada lebar celah kisi sehingga mempengaruhi pola difraksi. Intensitas cahaya difraksi bergantung dari berapa banyak kisi kristal yang memiliki orientasi yang sama. Metode ini dapat digunakan untuk menentukan struktur kristal, parameter kisi, derajat kristalinitas dan fase yang terdapat dalam suatu sampel. Untuk mencari parameter kisi dapat menggunakan metode cohen. Metode ini sangat akurat karena kesalahan sistematis tereliminasi oleh pemilihan fungsi ekstrapolasi yang tepat dan kesalahan acak dikurangi dengan metode kuadrat terkecil. 14 Gambar 2.1 dan Gambar 2.2 masing-masing menunjukkan struktur kristal rhombohedral dan monoclinic. Gambar 2.1 Struktur kristal rhombohedral Gambar 2.2 Struktur kristal monoclinic Gambar 2. 3 Diagram meja rotasi, sumber sinar-X dan detektor pada XRD Data yang didapatkan dari XRD dapat diolah dengan persamaan Debye-Scherrer : = 0.9λ B cos θ n 2.6.2 adalah ukuran kristal film, λ adalah panjang gelombang sinar-X yang digunakan, θ n adalah sudut puncak dan B adalah lebar puncak pada intensitas maksimum. Pada alat X-ray difraktometer, sampel ditempatkan pada rotation table. Sinar-X ditembakkan dari source menuju sampel dengan sudut awal 0 o . Kemudian sinar-X yang dipantulkan sampel akan diterima di detektor. Table akan dirotasi untuk mendapatkan nilai intensitas pantulan pada tiap sudut putaran. Untuk itu detektor akan menyesuaikan posisi sebesar dua kali lipat sudut rotasi table. 15

2.7 Konduktivitas Listrik