Proses Perhitungan ketebalan film LiTaO Pembuatan

3.3.4 Proses

annealing Proses annealing bertujuan untuk mendifusikan larutan LiTaO 3 dengan substrat silikon. Proses annealing dilakukan secara bertahap menggunakan furnace vulcan TM 3-130. Pemanasan dimulai dari suhu ruang kemudian dinaikkan hingga suhu annealing yang diinginkan yaitu 800 o C, 850 o C dan 900 o C dengan kenaikan suhu 1,7 o Cmenit. Setelah didapatkan suhu 800 o C, 850 o C dan 900 o C kemudian suhu annealing tersebut ditahan konstan selama 1 jam, 8 jam, 15 jam dan 22 jam. Selanjutnya dilakukan proses pendinginan sampai kembali pada suhu ruang. Nomor sampel film LiTaO 3 setelah proses annealing terlihat seperti pada Tabel 3.1. Hubungan suhu dan waktu selama proses annealing dapat dilihat pada Gambar 3.3. Pada Gambar 3.3 diperlihatkan proses kenaikan suhu awal sampai suhu annealing berupa garis linier karena pengaturan kenaikan suhu per menit, sedangkan proses pendinginan diperlihatkan berupa garis tidak linier karena tidak ada pengaturan penurunan suhu per menitnya. Gambar 3.2 Proses penumbuhan film LiTaO 3 Tabel 3.1 Nomor sampel film LiTaO 3 setelah proses annealing Keterangan : yang diberi warna adalah sampel uji xrd Gambar 3.3 Hubungan suhu dan waktu selama proses annealing Gambar 3.4 Film LiTaO 3 tampak samping

3.3.5 Perhitungan ketebalan film LiTaO

3 Film LiTaO 3 setelah proses annealing dihitung ketebalannya dengan metode volumetrik menggunakan persamaan 2.1. Substrat silikon yang telah dicuci kemudian ditimbang sebagai massa awal m 1 . Substrat silikon yang telah ditumbuhkan film LiTaO 3 di permukaannya setelah proses annealing kemudian ditimbang sebagai massa akhir m 2 . Luas film LiTaO 3 di permukaan silikon diukur menggunakan penggaris. Perhitungan lengkap ketebalan film LiTaO 3 dapat dilihat pada Lampiran 1.

3.3.6 Pembuatan

kontak pada film LiTaO 3 Proses selanjutnya adalah pembuatan kontak. Diawali dengan cara membuat pola kontak pada film yang berukuran 1 mm x 1 mm menggunakan aluminium foil. Setelah itu dilakukan proses metalisasi di Lab MOCVD Fisika ITB menggunakan bahan kontak aluminium 99,99 . Selanjutnya pemasangan kawat tembaga halus menggunakan pasta perak pada kontak. Film LiTaO 3 tampak samping yang telah ditumbuhkan pada substrat Si tipe-p dan telah dipasang kontak dapat dilihat pada Gambar 3.4.

3.3.7 Karakterisasi film LiTaO