Metode Sol Gel TINJAUAN PUSTAKA

5 cahaya pada panjang gelombang tertentu ke suatu obyek [26]. Spektrofotometri visible disebut juga spektrofotometri sinar tampak. Yang dimaksud sinar tampak adalah sinar yang dapat dilihat oleh manusia secara kasat mata. Cahaya yang dapat dilihat oleh mata manusia adalah cahaya dengan panjang gelombang 400 800 nm. Elektron pada keadaan normal berada pada kulit atom dengan energi terendah disebut keadaan dasar ground state. Energi yang dimiliki sinar tampak mampu membuat elektron tereksitasi dari keadaan dasar menuju kulit atom yang memiliki energi lebih tinggi atau menuju keadaan tereksitasi. Cahaya yang diserap oleh suatu zat berbeda dengan cahaya yang ditangkap oleh mata manusia. Cahaya yang tampak atau cahaya yang dilihat dalam kehidupan sehari hari disebut warna komplementer. Misalnya suatu zat akan berwarna orange bila zat tersebut menyerap warna biru pada spektrum sinar tampak dan suatu zat akan berwarna hitam bila zat tersebut menyerap semua warna yang terdapat pada spektrum sinar tampak [27]. Pada spektrofotometer sinar tampak, sumber cahaya biasanya menggunakan lampu tungsten yang sering disebut lampu wolfram. Wolfram merupakan salah satu unsur kimia, dalam tabel periodik unsur, wolfram termasuk golongan unsur transisi tepatnya golongan VI B atau golongan 6 dengan simbol W dan nomor atom 74. Wolfram digunakan sebagai lampu pada spektrofotometri tidak terlepas dari sifatnya yang memiliki titik didih yang sangat tinggi yakni 5930 °C [27]. Spektrofotometer dapat digunakan untuk menentukan nilai transmitansi, reflektansi maupun absorbansi suatu zat. Data reflektansi R yang diperoleh dapat digunakan untuk menentukan indeks bias n dengan menggunakan persamaan 2.3 [31]. n = 2.3 Keterangan: n= indeks bias, R= reflektansi maksimum yang dapat diperoleh dari kurva persen reflektansi terhadap panjang gelombang.

2.10 Metode Sol Gel

Secara umum fabrikasi film dengan metode sol gel meliputi empat proses; i sintesis larutan prekursor, ii deposisi larutan prekursor pada permukaan substrat, iii pemanasan pada suhu rendah. Perlakuan ini bertujuan menghilangkan pelarut dan senyawa organik lain yang mungkin ada biasanya pada suhu 300 400 o C dan pembentukan film yang masih berstruktur amorf dan iv perlakuan panas pada suhu tinggi. Perlakuan ini bertujuan untuk kristalisasi film yaitu suatu proses untuk mengubah bentuk film yang berstruktur amorf menjadi film yang berstruktur padatan biasanya pada suhu 600 1000 o C [42]. Spin coating melibatkan akselerasi dari genangan cairan di permukaan substrat yang berputar. Material pelapis dideposisi di tengah substrat. Proses spin coating dapat dipahami dengan reologi atau perilaku aliran larutan pada piringan substrat yang berputar. Mula mula aliran volumetrik cairan dengan arah melingkar pada substrat yang diasumsikan bervariasi terhadap waktu. Pada saat t = 0, penggenangan awal dan pembasahan menyeluruh pada permukaan substrat tegangan permukaan diminimalisasi yakni tidak adanya getaran atau diam pada waktu piringan substrat berputar, noda kering dan sebagainya. Piringan lalu dipercepat menggunakan alat spin coater seperti pada Gambar 2.3 dengan kecepatan angular sehingga mengakibatkan bulk cairan terdistribusi secara merata [29]. Beberapa parameter yang berpengaruh dalam proses spin coating adalah viskositas larutan, kandungan padatan, kecepatan angular dan waktu putar. Proses pembentukan film dipengaruhi oleh dua parameter bebas, yaitu kecepatan putar dan viskositas. Rentang ketebalan film yang dihasilkan oleh spin coating adalah 1 200 Qm [30]. Contoh spin coater diperlihatkan pada Gambar 2.3. Gambar 2.3 Spin coater Keterangan: a = piringan spin coater b = display c = tombol power d = adjustables, untuk mengatur kecepatan putar piringan ketika substrat berputar di piringan spin coater agar sesuai dengan kecepatan yang diinginkan.

BAB III METODOLOGI PENELITIAN