Adhesif Self-Etch Klasifikasi Sistem Adhesif

dapat menyebabkan kegagalan restorasi. Selain itu stress yang terjadi akibat kontraksi selama polimerisasi dari resin komposit dapat menyebabkan integritas tepi tambalan menjadi terganggu. Akibatnya adaptasi tepi yang buruk dan adanya celah mikro masih sering ditemui secara in vitro antara tepi kavitas dengan bahan restorasi. Biasanya antara tepi restorasi dengan dentin lebih tinggi kebocoran mikronya dari pada email. Adanya celah mikro dapat memicu terjadinya karies sekunder, hipersensitivitas, iritasi pulpa, dan diskolorisasi margin. 8-10 Salah satu cara untuk mendapatkan adaptasi yang baik pada restorasi resin komposit pada kavitas Klas V adalah dengan menggunakan resin komposit flowableatau SDR sebagai intermediate layer, karena viskositasnya rendah, laju alirnya tinggi sehingga dapat memberikan bond-strength pada restorasi dan adaptasi yang lebih baik dapat dicapai. 5,11 Stress Decreasing Resin SDR memiliki polimerisasi shrinkage yang rendah dan stress yang rendah, yang dapat digunakan secara bulk dengan ketebalan 4 mm. Bahan ini termasuk grup fotoactivedi dalam modifikasi urethane dimethacrylate. Aktivasi resinnya telah menunjukkan aktivasi polimerisasi radikal yang rendah, fotoinisiator yang dimasukkan kedalam resin dapat mempengaruhi proses polimerisasi. Selain itu penggabungan dari aktivasi resin ini mengurangi pengerutan polimerisasi 60-70.SDR memiliki konsistensi flowable sehingga dapat mengisi celah yang ada di bagian yang di preparasi. SDR direkomendasikan sebagai pengganti dentin kerena memiliki modulus elastisitas yang sama dengan dentin, Namun bahan ini kontra indikasi terhadap pasien yang memiliki riwayat alergi resin berbasis methacylate. 5,12 Resin komposit flowable memiliki ukuran partikel yang sama dengan komposit hybrid, namun mengurangi kandungan filler sehingga matriks meningkat dan menyebabkan penurunan viskositas bahan. Peningkatan daya alir akan memudahkan perlekatan bahan keseluruh dinding kavitas sehingga mengurangi terjadinya celah antara kavitas dan restorasi. 5 Furthermore dkk 2004 menyimpulkan bahwa 0,5-1,0 mm lapisan dari lining resin komposit flowableyang digunakan di bawah tambalan resin komposit packablehasilnya signifikan mengurangi celah mikro cit arslan . 5 Simi dan Suprabha 2011 menunjukkan adaptasi margin dari komposit meningkat ketika digunakan bersama dengan resin komposit flowable sebagai intermediate layercit arslan. 5 Selain itu perlekatan bahan adhesif ke jaringan keras gigi merupakan faktor penting untuk keberhasilan penggunaan bahan restorasi yang mengalami pengerutan pada saat polimerisasi. Seperti halnya sistem adhesif self-etching primer dan total- etch sebagai sistem adhesif antara struktur gigi dengan bahan restorasi diharapkan dapat meminimalkan celah mikro. 8,9 Self-etching primer mengandung primer seperti 2-hidroksietil metakrilat HEMA atau diphentaeryhitol penta acrylateomonophosphate PENTA, dalam botol yang sama yang perlekatan viskositas resinnya rendah, sebuah pelarut etanol atau aseton ditambahkan untuk menghilangkan air sehingga terjadi pertukaran monomer dari dalam kolagen menghasilkan lapisan hybrid. Self-etching primers tidak memerlukan tahap etsa asam dan pencucian dengan air. Self-etching primer mengeleminasi faktor-faktor overetching, overdrying dan overwetting sehingga, dapat mengurangi sensitivitas dan meningkatkan efisiensi dalam prosedur klinis terutama dalam menghemat waktu manipulasi kerena jumlah tahapannya lebih pendek dari total-etch. 8,13,14,15 Total-etch merupakan sistem bahan adhesif generasi ke-4 dan ke-5 yang terdiri dari etsa asam yang terpisah dari primer adhesifnya.Total-etch menggunakan biasanya asam posfat 35-37 selama 15 detik untuk menghilangkan smear layer dan demineralisasi kristal hidroksiapatit di daerah superfisial. Kerugian dari bahan adhesif ini adalah adanya ditemukan sensitivity post-operative. Namun total-etch masih dianggap sebagai gold standard dalam hal bond strength terhadap enamel dan dentin, karena bond strength memiliki keterkaitan secara langsung terhadap keberhasilan klinis. 8,15 Umer dkk 2011 melakukan penelitian dengan mengevaluasi mikroleakage pada klas V, hasilnya tingkat celah mikro dari restorasi komposit resin dengan sistem adhesif total-etch lebih rendah dibandingkan self-etch. Sedangkan penelitian yang dilakukan Arslan dkk 2012 melihat pengaruh dua intermediate layer yang berbeda

Dokumen yang terkait

Pengaruh Stress Decreasing Resin (SDR) sebagai Intermediate Layer Restorasi Klas I dengan Sistem Adhesif Total Etch Two Step Terhadap Celah Mikro (Penelitian In Vitro)

1 60 92

Pengaruh Stress Decreasing Resin (SDR) sebagai Intermediate Layer Restorasi Klas V sengan Sistem Adhesif Self Etching Primer dan Total Etch Terhadap Celah Mikro (In Vitro)

2 58 98

Pengaruh Stress Decreasing Resin (SDR) dan Resin Flowable sebagai Intermediate Layer pada Restorasi Klas V Resin Komposit Terhadap Celah Mikro (In Vitro)

0 30 96

Pengaruh Stress Decreasing Resin (SDR) dan Resin Flowable sebagai Intermediate Layer pada Restorasi Klas V Resin Komposit Terhadap Celah Mikro (In Vitro)

0 0 17

Pengaruh Stress Decreasing Resin (SDR) sebagai Intermediate Layer Restorasi Klas V sengan Sistem Adhesif Self Etching Primer dan Total Etch Terhadap Celah Mikro (In Vitro)

0 0 13

Pengaruh Stress Decreasing Resin (SDR) sebagai Intermediate Layer Restorasi Klas V sengan Sistem Adhesif Self Etching Primer dan Total Etch Terhadap Celah Mikro (In Vitro)

0 1 5

Pengaruh Stress Decreasing Resin (SDR) sebagai Intermediate Layer Restorasi Klas V sengan Sistem Adhesif Self Etching Primer dan Total Etch Terhadap Celah Mikro (In Vitro)

0 1 15

Pengaruh Stress Decreasing Resin (SDR) sebagai Intermediate Layer Restorasi Klas V sengan Sistem Adhesif Self Etching Primer dan Total Etch Terhadap Celah Mikro (In Vitro)

0 2 3

Pengaruh Stress Decreasing Resin (SDR) sebagai Intermediate Layer Restorasi Klas I dengan Sistem Adhesif Total Etch Two Step Terhadap Celah Mikro (Penelitian In Vitro)

0 2 17

PENGARUH STRESS DECREASING RESIN (SDR) SEBAGAI INTERMEDIATE LAYER RESTORASI KLAS I DENGAN SISTEM ADHESIF TOTAL ETCH TWO STEP TERHADAP CELAH MIKRO (IN VITRO)

0 0 14