35 sputtering
akan terjadi pada tabung reaktor plasma yang dapat dilihat melalui jendela tabung reaktor.
8. Mengatur waktu deposisi selama 15 menit.
3.3.3. Karakterisasi lapisan tipis S
n
O
2
Karakteristik lapisan tipis bahan semikonduktor meliputi tiga tahapan, yaitu tahap pengukuran nilai resistansi, analisis struktur morfologi permukaan,
dan analisis komposisi kimia lapisan tipis.
3.3.3.1. Pengukuran nilai resistansi.
Untuk menguji sifat listik lapisan tipis
2
O S
n
hasil deposisi adalah menggunakan profesional multimeter digital seri : UT 70A, data yang diperoleh
dari alat ini berupa nilai resistansi lapisan tipis tersebut. Adapun pengukurannya dilakukan dengan cara menempelkan stik pengukur dari multimeter pada ujung-
ujung sampel, kemudian diamati nilai resistansi sampai pada keadaan stabil, setelah menunjukan suatu nilai yang stabil lalu dicatat datanya. Hasil pengukuran
dapat dilihat pada layar LCD.
3.3.3.2. Mengamati struktur morfologi permukaan dan ketebalan lapisan tipis serta analisis komposisi kimia lapisan tipis.
Langkah-langkah pengujian bentuk morfologi permukaan dan ketebalan lapisan serta komposisi kimia menggunakan alat SEMEDX dengan merk Joel
JSM-636OLA adalah sebagai berikut :
36 1. Memotong sampel hasil preparasi dengan ukuran 1 x 0,3 cm².
2. Menempelkan sampel yang sudah dipotong pada tempat sampel dan mengelemnya dengan menggunakan lem konduktif Dottite dan pasta
perak. 3. Memanaskan sampel tersebut menggunakan pemanas air guna
mengeringkan lem konduktifnya 4. Membersihkan sampel dari debu-debu yang menempel dengan
menggunakan hand blower. 5. Melapisi sampel lapisan tipis dengan gold-paladium Au : 80 dan
Pd : 20 dengan menggunakan alat ion sputter JFC – 1100 selama 4 menit, yang memiliki spesifikasi : 1 tegangan 1,2 kV; 2 arus listrik
6 – 7,5 mA; dan 3 tingkat kevakuman 0,2 Torr. 6. Memasukkan sampel ke dalam tempat sampel pada mesin SEMEDS
dengan merk Joel JSM-636OLA untuk dilakukan pemotretan. 7. Melakukan pengamatan dan pemotretan pada titik yang diinginkan,
kemudian menyimpan datanya dalam sebuah file.
3.4. Keterbatasan penelitian
Pompa rotari dalam sistem vakum mesin sputtering DC tidak dapat difungsikan, sehingga mempengaruhi tingkat kevakuman tabung lucutan.
