32 2. SEM Scanning Electron Mictroscope dan EDXS Energy Dispersive
X-Ray Specrtoscopy SEM digunakan untuk mengetahui struktur morfologi permukaan
lapisan tipis dan EDXS digunakan untuk menganalisis komposisi kimia lapisan tipis yang terbentuk.
3.3. Prosedur Penelitian
Urutan kerja dalam penelitian ini dibagi menjadi tiga tahap, yaitu tahap preparasi sampel, tahap pendeposisian lapisan tipis dan tahap karakterisasi lapisan
yang terbentuk.
3.3.1. Preparasi sampel
Dalam penelitian ini target yang digunakan adalah
2
O S
n
. Target
2
O S
n
telah tersedia dalam keadan jadi, berbentuk bundar dengan diameter 60 mm, tebal 3 mm dan berat 30 gram.
Substrat dibuat dari kaca slide microscope yang dipotong-potong dengan ukuran 1,2 x 2,5 x 0,1 cm. Kemudian dicuci dengan air bersih yang diberi
deterjen dengan menggunakan ultrasonic cleaner selama 30 menit. Setelah itu dikeringkan menggunakan hair dryer. Setelah selesai kemudian disimpan dalam
plastik klip supaya terlindung dari kotoran luar.
33
3.3.2. Prosedur Deposisi Lapisan Tipis dengan Teknik
Sputtering DC 3.3.2.1. Deposisi lapisan tipis S
n
O
2
dengan teknik sputtering DC
Pendeposisian lapisan tipis
2
O S
n
pada substrat kaca dilakukan dengan langkah-langkah sebagai berikut :
1. Memasang target
2
O S
n
pada elektroda negatif katoda untuk sasaran penembakan gas argon dalam tabung lucutan.
2. Memasang substrat kaca pada elektroda positif anoda dalam tabung lucutan
3. Mengoperasikan pompa rotari hingga mencapai tekanan
2
10
−
Torr. 4. Mengalirkan gas argon ke dalam tabung lucutan, dan mengatur
tekanan gas sesuai dengan yang dikehendaki dengan cara memutar kran aliran gas.
5. Menghidupkan sistem tegangan tinggi DC dan mengatur tegangan sesuai dengan tegangan kerja yang dikehendaki. Selanjutnya di dalam
tabung akan nampak terbentuknya plasma, yang berarti proses deposisi sedang berlangsung.
6. Menghidupkan sistem pendingin untuk mendinginkan target pada katoda, supaya atom-atom
2
O S
n
yang terlepas dari target benar-benar disebabkan oleh percikan arus searah DC
7. Menghentikan proses deposisi setelah mencapai waktu yang dikehendaki, dengan cara : 1 menutup aliran gas; 2 mematikan sistem
tegangan tinggi dengan memutar pengatur tegangan ke posisi nol; 3 menutup kran pompa vakum rotari; 4 mematikan aliran listrik dan
