Terpilar PILC tersebut, Al
3+
diubah ke bentuk Al terkoordinasi oktahedral oleh keasaman Bronsted-Lowry.
Beberapa reaksi yang dikatalisis oleh asam yang terkandung dalam Lempung Terpilar PILC di antaranya:
X Pemecahan Kumene Cumene Cracking dilakukan sebagai reaksi pengujian terhadap keasaman Bronsted-Lowry.
X Oligomerisasi poli-propilen dikatalisis oleh bagian Asam Lewis pada montmorilonit terpilar-Al Al-pillared Montmorillonite.
X Pada Reaksi Disproporsionasi terhadap Trimetil benzen yang mungkin akan menghasilkan Durene 1,2,4,5- tetrametil benzen, bagian Asam Lewis pada
Lempung Terpilar PILC mengkatalisis reaksi ini, sementara dalam reaksi isomerisasi Trimetil benzen Reaksi samping, bagian Asam Bronsted-Lowry
pada Lempung Terpilar PILC juga ikut berperan.
Pada proses pemisahan gas N
2
, dan O
2
dari udara yang dilakukan melalui destilasi kriogenik dan melalui adsorpsi tekanan putar Pressure Swing Adsorption
PSA, penggunaan Lempung Terpilar PILC sebagai alternatif juga menarik sebagai penyaring molekul Carbon, dan Lempung Terpilar PILC ini digunakan sebagai
adsorben dalam teknik PSA ini. Kapasitas dan selektivitas terhadap komponen- komponen udara adalah sifat Lempung Terpilar PILC yang sangat berguna dalam
aplikasi adsorpsi gas.
2.4. Proses Etsa Etching terhadap Silikon
Untuk material-material semikonduktor, pengetsaan kimia secara basah biasanya berlangsung melalui oksidasi, yang diikuti dengan penguraian oksida dalam suatu
reaksi kimia. Untuk Silikon, bahan pengetsa etchants yang lazim digunakan adalah campuran antara, Asam fluorida HF, Asam Nitrat HNO
3
, dan Asam Asetat CH
3
COOH. Reaksi berlangsung dengan mengubah Silikon dari keadan teroksidasi ke tingkat oksidasi yang lebih tinggi:
Si + 2 h Si
2+
a
Yedid Novrianus Larosa : Studi Pengetsaan Bentonit Terpilar Fe
2
O
3
, 2007 USU Repository © 2008
Dalam reaksi oksidasi ini, dibutuhkan lubang h
+
. Oksidator utama dalam pengetsaan
semikonduktor adalah ion OH
-
, dimana ion OH
-
tersebut dihasilkan dari reaksi disosiasi air H
2
O: H
2
O OH
-
+ H
+
b
Si
2+
dalam reaksi a bereaksi dengan OH
-
, menghasilkan: Si
2+
+ 2 OH
-
SiOH
2
c
Kemudian, akan membebaskan Hidrogen untuk membentuk SiO
2
: SiOH
2
SiO
2
+ H
2
d
Asam fluorida HF digunakan untuk melarutkan SiO
2
: SiO
2
+ 6 HF H
2
SiF
6
+ H
2
O e
Dimana H
2
SiF
6
dapat larut dalam air.
Lubang h
+
dalam reaksi a dihasilkan dari suatu reaksi autokatalitik yang
dapat dijelaskan sebagai berikut: dalam reaksi antara HNO
2
dengan HNO
3
dalam air, akan dihasilkan:
HNO
2
+ HNO
3
2 NO
2 -
+ 2 h
+
+ 2 H
2
O f
2 NO
2 -
+ 2 H
+
2 HNO
2
g HNO
2
yang dihasilkan dalam reaksi g akan kembali bereaksi dalam reaksi f, sehingga didapatkan reaksi akhir overall reaction sebagai berikut:
Si + HNO
3
+ 6 HF H
2
SiF
6
+ HNO
2
+ H
2
O + H
2
h
Tabel 2.4 berikut ini memperlihatkan beberapa jenis bahan pengetsa
etchants lainnya untuk semikonduktor dari bahan Silikon Si:
Tabel 2.4 Beberapa Jenis Bahan Pengetsa etchants untuk Semikonduktor dari
Bahan Silikon Si No. Formula
Nama 1.
1 ml HF, 1 ml C
2
O
3
5M Sirtl
2. 1 ml HF, 3 ml HNO
3
, 1 ml CH
3
COOH Dash 3.
2 ml HF, 1 ml K
2
Cr
2
O
7
0.15M Secco
Yedid Novrianus Larosa : Studi Pengetsaan Bentonit Terpilar Fe
2
O
3
, 2007 USU Repository © 2008
2 ml HF, 1 ml Cr
2
O
3
0.15M Secco 4.
200 ml HF, 1 HNO
3
5. 60 ml HF, 30 ml HNO
3
60 ml H
2
60 ml CH
3
COOH, 30 ml 1g CrO
3
dalam 2 ml H
2
Jenkins Wright
6. 2 ml HF, 1 ml HNO
3
, 2 ml AgNO
3
0.65M dalam H
2
Silver
7. 5 g H
5
IO
6
, 5 mg KI dalam 50 ml H
2
O, 2 ml HF Sponheimer
Mills 8. Shipley
112° 9.
6 ml HF, 19 ml HNO
3
10. 150gl 1.5M, CrO
3
dalam H
2
0 dan HF 1:1 Yang
11. 600 ml HF, 300 ml HNO
3
28g CuNO
3 2
, 3 ml H
2
0 Copper Etch
12. 1000 ml
H
2
O, 1 ml 1.0N KOH, 3.54g KBr, 708g KbrO
3
13. 55g CuSO
4
, SH20, 950 ml H
2
0, 50 ml HF Copper
Displacement 14.
1 ml HF, 3 ml HNO
3
White
15. 3 ml HF, 5 ml HNO
3
, 3 ml CH
3
COOH CP-4
16a.
16b.
16c.
16d. 25 ml HF, 18 ml HNO
3
, 5 ml CH
3
COOH 1g Br2 10 ml H
2
0, 1g CuNO
3 2
100 ml HF; 1 ml dalam 5 ml HNO3
50 ml CuNO
3 2
; 1 ml dalam 2 ml HF
4 NaOH + 40 NaClO hingga H
2
habis dari Si SD1
17. 300 ml HNO
3
, 600 ml HF 2 ml Br
2
, 24g CuNO
3 2
larutkan 10:1 dengan H
2
O Sailer
18. a 75g CrO
3
dalam 1000 ml H
2
O bagian 1. Campurkan bagian 1 dengan 48 HF
Schimmel
Yedid Novrianus Larosa : Studi Pengetsaan Bentonit Terpilar Fe
2
O
3
, 2007 USU Repository © 2008
bagian 2
b Campurkan bagian 1 dengan bagian 2 ke dalam 1.5 bagian H
2
O 19. 5g
H
5
IO
6
, 50 ml H
2
O, 2 ml HF, 5mg KI Periodic HF
www.virginiasemi.com ,
techvirginiasemi.com
2.5. Mikroskop Elektron Payaran SEM
