18
terlihat berbeda ketika dianalisa dalam bentuk film. Banyak fungsi ataupun manfaat material yang lebih banyak dapat diterapkan jika dalam bentuk film
karena sifat - sifat khususnya seperti sifat listrik, magnet dan optiknya.
2.4.1 Klasifikasi Teknik Deposisi Film
Pada dasarnya, teknik deposisi film adalah murni berbasis fisika seperti metode evaporasi atau murni berdarkan prinsip - prinsip kimia seperti liquid -
phase chemical process. Namun, pada beberapa keadaan terjadi overlapping proses yang dikategorikan sebagai metode fisika - kimia seperti proses yang
melibatkan pergerakan elektron dalam reaksi sputtering. Sifat - sifat dari film sangat sensitif pada metode prepasrasi sampel film
tersebut, dan beberapa teknik telah dikembangkan untuk proses deposisi film dari material logam, keramik, polimer dan superkonduktor di atas berbagai material
substrat. Beberapa metode tersebut diuraikan dalam tabel berikut ini:
Teknik Deposisi Film
Fisika Kimia
Glow Discharge DC Sputtering
Triode Sputtering Getter Sputtering
Radio Frequency Sputtering Magnetron Sputtering
Ion Beam Sputtering AC Sputtering
Vacuum Evaporation Resistive Heating
Flash Evaporation Electron Beam Evaporation
Laser Evaporation Arc Evaporation
Radio Frequency Heating Sputtering
Evaporation Chemical Vapour Deposition
Laser Chemical Vapour Deposition Photo-chemical Vapour Deposition
Plasma Enhanced Vapour Deposition
Metal-Organo Chemical Vapour Deposition MO-VCD
Spray-Phyrolysis Technique SPT
Ultrasonic Electrodeposition
Chemical Bath depostion Electroless Deposition
Anodisation Liquid Phase Epitaxy
Sol-gel Spin Coating
Gas Phase Liquid Phase
Polymer Assisted Deposition
Gambar 2.9. Klasifikasi dasar teknik - teknik deposisi film
19
Dari sekian banyak teknik - teknik dalam pemrosesan suatu material ke dalam bentuk film, tidak ada satu teknik pun yang mampu menghasilkan suatu
film dengan karakteristik yang lengkap baik listrik, magnet, optik dsb Jon S, 2005. Karenanya, pemilihan proses ataupun metode deposisi yang bersesuaian
mengambil peranan penting dalam membentuk kualitas film yang baik sesuai yang diharapkan. Untuk itu ada beberapa aspek yang perlu diperhatikan,
diantaranya: a.
Efektivitas biaya b.
Mampu mendeposisi material dasar c.
Mikrostruktur film dan laju deposisi dapat dikontrol d.
Stokiometri material diatur diawal pemrosesan material e.
Beroperasi pada suhu rendah f.
Adhesive pada suhu rendah g.
Ketersedian bahan deposit melimpah h.
Bahan deposit bersesuain dengan substrat yang dipilih Diantara variasi teknik yang didiskusikan di atas, metode elektrodeposisi
akan diuraikan lebih lanjut dalam penelitian ini.
2.4.2 Metode Elektrodeposisi
